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传中芯国际5纳米良率提升至60%-70%

• 2025-11-09 • 阅读 81
但由于采用深紫外光（DUV）微影设备而非极紫外光（EUV）设备，

“定焦数码”还指出，Wccftech报道称，据Jukanlosreve此前透露，Jukanlosreve对传言的驳斥并不令人意外。预计成本将增加50%。

近日，

传中芯国际5纳米良率提升至60%-70%

后者已被用于生产Galaxy Z Flip 7搭载的Exynos 2500芯片。中芯国际5纳米良率与三星电子3纳米GAA制程相当。然而，称其为编造内容。微博账号“定焦数码”爆料称，该传言遭到X账号Jukanlosreve的强烈质疑，基于中芯国际目前的技术进展，中芯国际5纳米制程的良率已提升至60%-70%。中芯国际计划在2025年前完成5纳米芯片开发，

传中芯国际5纳米良率提升至60%-70%

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